《人造金剛石大顆粒單晶生長技術工藝精選匯編》涉及國內外著名公司、科研單位、知名企業的最新專利技術全文資料,工藝配方詳盡,技術含量高、環保性強是從事高性能、高質量、產品加工研究生產單位提高產品質量、開發新產品的重要情報資料。
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內容描述:
1西安交通大學橫向搭橋拼接生長大面積單晶金剛石的方法
將單晶金剛石襯底I和單晶金剛石襯底II進行拼接,在接縫處生長出橋狀連接部分,并繼續外延生長得到完整的大面積單晶金剛石層;其中,單晶金剛石襯底I在拼接處的厚度小于單晶金剛石襯底II在拼接處的厚度。解決了金剛石拼接生長過程中拼接縫明顯,金剛石容易發生相對移動的問題,從而降低拼接處出現裂紋甚至裂開的風險
2單晶金剛石的生長方法,這種生長方法通過三層結構來生長高質量單晶金剛石
解決了傳統金剛石生長過程中外延層高的生長速率與外延層質量之間相矛盾的問題
3武漢大學單晶金剛石生長方法和裝置,能夠實現大尺寸單晶金剛石的快速生長
所提供的單晶金剛石生長方法,包括如下步驟:將金剛石襯底放置于諧振腔中;將含有碳源和氫氣的反應氣體通入電離腔中進行充分電離,然后將電離后的氣體通入諧振腔中進行微波等離子體化學氣相沉積,在襯底上快速生長金剛石
4六號元素有限公司一種單晶CVD合成金剛石層
包括非平行的位錯陣列,其中當在X射線形貌斷面圖中觀察或在發光條件下觀察時,非平行的位錯陣列包含形成一組相互交叉的位錯的多個位錯
5激光增強等離子體CVD制備單晶金剛石裝置及其方法
結合微波能(或電能)和激光兩種能量,利用低成本的高能量激光提高金剛石合成過程中等離子體的能量和氣體離解速率,從而提高金剛石的合成速率,該方法有效解決了金剛石高速批量制備的難題
6單晶金剛石制備裝置以及方法
該單晶金剛石制備裝置,在制備單晶金剛石的過程中,使反應氣體經過摻雜裝置,從而將水蒸氣帶入到反應腔內,實驗結果表明,通入水蒸氣制得的金剛石顏色和純凈度比不通水蒸氣更好,而且外緣處的幾乎無多晶產生
7金剛石制備技術領域,公開了一種拼接生長單晶金剛石的方法及系統
采用CVD法拼接生長單晶金剛石,達到大面積生長單晶金剛石的目的,現有單晶金剛石的生長只能在原有的籽晶上進行縱向擴大,這樣籽晶的尺寸直接決定了合成的尺寸,采用兩個尺寸相同,厚度接近的單晶金剛石片進行固定拼接,然后同時生長,獲得大尺寸單晶金剛石,解決了瓶頸問題
8金剛石單晶生長裝置及方法
裝置包括:沉積臺和可升降中心柱;所述沉積臺上設有沉積臺孔,可升降中心柱上設有與所述沉積臺孔配合的孔柱,孔柱設置在沉積臺孔中。能夠有效地提高金剛石單晶生長質量,解決一次生長不了太厚的問題
9浙江工業大學鍺空位(Ge?V)發光的金剛石顆粒及其制備方法
在石英襯底上采用磁控濺射的方法,制備一系列不同厚度的鍺涂層樣品;在步驟(1)得到的襯底上采用熱絲化學氣相沉積的方法制備分散的金剛石顆粒。提供的具有Ge?V發光的金剛石顆粒的尺寸為0.5~3.5μm,對于實現其在單光子源、量子信息處理、光電子器件等領域的應用具有非常重要的科學意義和實際價值
10微波等離子體化學氣相沉積方法生長單晶金剛石領域,梯度單晶金剛石及其制備方法
采用微波等離子體化學氣相沉積設備,在氫氣甲烷混合氣源中連續性梯度濃度通入高純空氣,實現不含氮的高質量單晶金剛石層和含氮金剛石層的交替沉積,制備出高質量、高強度、韌性好的梯度單晶金剛石
11基于Ⅱa型天然金剛石的同質外延生長單晶金剛石的方法
利用微波等離子體化學氣相沉積法高溫刻蝕Ⅱa型單晶金剛石,利用產生的碳源生長金剛石,能有效提高單晶金剛石生長所需碳源的純度,
得到的單晶金剛石質量好,且生長出的單晶金剛石為與基底相對應的規則形狀,提高利用率
12CVD法合成單晶金剛石降低位錯密度的方法
通過激光刻蝕技術將金剛石表面圖案化的特殊結構設計,控制單晶金剛石圖案層橫向與縱向的生長速率,通過一次或多次圖案化處理有效抑制生長過程中位錯的產生,獲得高質量的單晶金剛石。優勢是在生長過程中控制單晶金剛石橫向和縱向的生長速率比值,保證在凹槽內生長方向與位錯線方向垂直,消除襯底凹槽底部的位錯遺傳,提高金剛石生長層的晶體質量
13利用方形槽鑲嵌式襯底托抑制多晶金剛石生長的方法
由于石墨體在襯底與襯底托之間沉積,襯底側邊與襯底托有接觸,增大了襯底邊緣的冷卻效果,優化單晶金剛石襯底整體溫度均勻性;極大地避免了襯底邊緣出現多晶生長。通過實驗發現利用方形槽鑲嵌式襯底托可有效抑制了單晶金剛石在生長過程中的邊緣多晶,獲得了尺
寸不縮小的單晶金剛石樣品
14大顆粒金剛石的制備方法
能夠制備大顆粒的金剛石,晶型完整,成本低且工藝簡單
15信越化學工業株式會社一種轉位缺陷可以被充分減低的金剛石基板的制造方法,以及高品質的金剛石基板以及金剛石自立基板
16河南工業大學類金剛石直接轉化合成純相多晶金剛石的制備方法
采用類金剛石粉末為原材料,經凈化除雜、預壓成型后,不添加任何粘結劑,裝配燒結單元,經高溫超高壓燒結制備純相多晶金剛石。制備得到的多晶金剛石的晶粒尺寸為5納米 ? 100微米,大面積形成高強度的金剛石—金剛石成鍵的界面。多晶金剛石的硬度與金剛石單
晶硬度相當;熱穩定性,硬度,及耐磨性明顯優于含金屬或陶瓷粘結劑的多晶金剛石
17中國科學院半導體研究所異質外延金剛石及其制備方法
該異質外延金剛石包括:異質襯底;石墨烯柔性層,制備于異質襯底上;金剛石層,外延生長于石墨烯柔性層上;石墨烯柔性層作為異質襯底上生長金剛石的柔性中間層。利用石墨烯作為外延金剛石的模板和過渡緩沖層,消除了由于異質襯底與金剛石間晶格失配造成的外延金剛石質量降低
18住友電氣工業株式會社:單晶金剛石生產方法
其包括一組彼此相對的主表面,其中,在主表面中,雜質濃度沿著第一方向變化
19住友電氣工業株式會社:金剛石包含氮原子的生產方法
該氮原子的濃度沿著金剛石單晶的晶體取向周期性地變化。沿著晶體取向的一個周期的距離的算術平均值Aave、最大值Amax和最小值A min 滿足由下式(I)表示的關系:(Amax)/1.25≤ (Aave)≤(Amin)/0.75(I)
20二A科技有限公司單晶金剛石及其生長方法
單晶金剛石
21住友電氣工業株式會社單晶金剛石材料、單晶金剛石芯片和穿孔工具
在單晶金剛石材料中,非置換型氮原子的濃度為200ppm以下,置換型氮原子的濃度低于所述非置換型氮原子的濃度,單晶金剛石材料具有偏角為20° 以下的晶體生長主表面。在單晶金剛石芯片中,非置換型氮原子的濃度可以為200ppm以下,置換型氮原子的濃
度可以低于所述非置換型氮原子的濃度,并且所述單晶金剛石芯片可以具有偏角為20°以下的主表面
22含硼金剛石及其制備方法和用途
涉及金剛石領域,該含硼金剛石為多晶結構,該含硼金剛石為多晶結構,解決了現有技術中含硼金剛石為單晶結構時把持力差、容易脫落和不夠鋒利的問題,解決了現有技術中的多晶金剛石在高溫下容易膨脹、破碎的技術問題,可以用作陶瓷和金屬結合劑磨具。該含硼金剛
石改善了多晶金剛石的熱力學穩定性,拓展了多晶金剛石的使用范圍
23浙江工業大學Si?V發光的納米金剛石晶粒
采用熱絲化學氣相沉積法,簡單易行、容易操作,制備了尺寸在70~100nm的Si ?V發光的納米金剛石晶粒,其晶型規則,發光峰的歸一化強度約為4.5,為納米金剛石在生物標記等領域的應用提供了重要基礎
24河南理工大學人工合成大尺寸單晶金剛石片方法
包括生產晶種,合成組裝塊裝配及合成加工等三步,與現有技術相比,可有效提高人工合成金剛石的直徑,并實現同批次的人工合成金剛
石生產中可同時制備不同直徑人工合成金剛石的需要,從而在有效滿足市場對單晶金剛石需求的同時,另可有效的滿足市場對小直徑單晶
金剛石的需要,并可有助于降低人工合成金剛石生產的成本
25一種人工生長大顆粒金剛石單晶的方法及裝置
能夠有效避免了大顆粒金剛石單晶生長過程中的金屬夾帶現象,生長出了粒徑大于10mm的大顆粒金剛石單晶,大幅度提高生產效率
26一種具有半導體性質Ⅱb型金剛石單晶的人工生長方法及裝置
方法是向作為碳源的石墨中摻加氮化硼,使金剛石晶體在生長過程中有硼原子摻雜,高溫高壓條件下,將金剛石晶種置于金屬觸媒的底部,利用溫度梯度法生長;采用高溫高壓條件,以摻加硼的石墨為碳源,利用溫度梯度法生長出了粒徑大于10mm且具有半導體性質的Ⅱb
型的金剛石單晶
27住友電氣工業株式會社單晶金剛石及其制造方法
包含單晶金剛石的工具和包含單晶金剛石的部件,適合用于切削工具、拋光工具、光學部件、電子部件、半導體材料等
28住友電氣工業株式會社提供單晶金剛石、制造所述單晶金剛石的方法以及包含所述金剛石的工具
單晶金剛石以均衡方式提高了硬度和耐缺損性。單晶金剛石含有氮原子,且所述單晶金剛石中的孤立置換型氮原子的數目對所述單晶金剛石中的氮原子總數之比為0.02%以上且低于40%
29信越化學工業株式會社金剛石膜的制造方法
其特征是至少具有在單晶基板上化學氣相沉積金剛石膜的工序、以及由單晶基板分離該金剛石膜的工序,單晶基板使用Ir單晶或Rh單晶,單晶基板在取出金剛石膜后能夠重復使用,由單晶基板分離該金剛石膜的工序是,通過將層積基板從高溫的加熱狀態冷卻至低溫,利用在單晶基板和金剛石膜的界面產生的應力而分離金剛石膜
30哈爾濱工業大學一種利用等離子體擋板優化單晶金剛石同質外延生長的方法
涉及優化單晶金剛石同質外延生長的方法。要解決現有MWCVD生長系統中等離子體密度對籽晶生長質量的影響,等離子體形態與籽晶接觸方式導致側向生長區域質量較低,以及等離子體中碳源沉積污染艙體等問題
31金剛石涂層及沉積該涂層的方法
涉及金剛石涂層,其特征在于它包含至少一個第一納米晶金剛石層和第二微晶金剛石層的疊層
32哈爾濱工業大學異質外延生長大尺寸單晶金剛石的襯底及其制備方法
在其中插入了TiN單晶籽晶層作為外延模板和過渡緩沖層,提高了氧化物及整個襯底外延層的晶向的取向一致度及生長質量,從而為生長高質量大尺寸單晶金剛石提供了可能;由于使用了TiN緩沖層,整個外延疊層結構可以基于Si襯底進行,使得外延成本大大地降低,
同時基于Si襯底生長金剛石,可以更好地與電子信息工業相匹配
33六號元素有限公司制備鮮艷橙色的合成CVD金剛石材料的方法
方法包括輻照已經由CVD生長的單晶金剛石材料從而將孤立空位引入至少一部分的CVD金剛石材料中,并且隨后退火該輻照的金剛石材料,從而由至少一些所引入的孤立空位形成空位鏈。還描述了鮮艷橙色的CVD金剛石材料
34信越化學工業株式會社研制單晶金剛石的制造方法
一種在通過氣相合成得到的單晶金剛石晶種基板上追加堆積氣相合成單晶金剛石的單晶金剛石的制造方法
35超細顆粒金剛石單晶的合成方法
采用的觸媒粉末為Ni基合金觸媒粉末。利用可制備超細顆粒的金剛石單晶,合成的400目以細超細顆粒金剛石含量達90%以上,晶形完整率達85%以上;有效地解決了現有技術難以合成超細顆粒金剛石的不足;金剛石晶型完整,純凈度高、熱沖值達80~87%
36上海交通大學超細金剛石單晶微粉的制備方法
包括以機械破碎法得到的金剛石微粉作為籽晶,采用光刻膠超聲振動均勻分散金剛石晶種工藝,將籽晶均散在硅基襯底表面,金剛石微粉的粒度為M0/1~M6/12;應用熱絲化學氣相沉積法對經過播種籽晶的硅基襯底進行沉積,獲得金剛石單晶顆粒;采用化學腐蝕硅基襯底結合高速離心沉降顆粒工藝處理獲得的金剛石單晶顆粒,以獲得超細單晶金剛石微粉
37上海交通大學硼摻雜超/精細金剛石單晶微粉的制備方法
超/精細金剛石微粉中具有六-八面體或二十面體聚形晶體形態的比例較高,不但可顯著提高超/精細金剛石單晶顆粒的生長速率,還可
改善顆粒的晶形及表明質量
38六號元素技術有限公司合成金剛石材料
其包含一個或多個自旋缺陷,該一個或多個自旋缺陷具有不大于100MHz的半峰全寬固有非均勻的零聲子譜線寬度。用于獲得這樣的
材料的方法包括多階段退火過程
39六號元素技術有限公司一種著色的單晶CVD合成金剛石材料
其包含:多個層;其中所述多個層包括至少兩組層,所述至少兩組層在它們的缺陷組成和顏色方面不同,其中所述至少兩組層各自的缺陷類型、缺陷濃度和層厚度為:如果將所述著色的單晶CVD金剛石材料制造成圓形明亮式切割金剛石,該圓形明亮式切割金剛石包含臺面和底尖,并且具有大于1mm的臺面至底尖深度
40N型半導體金剛石單晶及其生產方法
單晶導電性較好,光熱轉換效率高,適合于太陽能電池、LED光源、高性能芯片的制作,產品性能穩定
41六號元素技術有限公司一種單晶CVD合成金剛石材料
顏色強度在單晶CVD合成金剛石材料中是均勻的,使得以灰度值標準偏差除以灰度值平均值為特征的灰度色的變化小于40%
42住友電氣工業株式會社單晶金剛石
其由碳同位素12C的濃度為99.9質量%以上的碳以及除了碳以外的多種不可避免的雜質構成。該不可避免的雜質包括氮、硼、氫和鎳;并且所述多種不可避免的雜質中的氮、硼和氫的總含量設定為0.01質量%以下
43東山國際有限公司在反應池中的用于金剛石生長的多層結構
該多層結構包括:金剛石晶種;設于金剛石晶種上的第一金屬催化層,該第一金屬催化層包含第一濃度的碳;設于第一金屬層之上的第二金屬催化層,該第二金屬催化層包含高于第一濃度的第二濃度的碳;以及設于第二金屬層之上的碳源層
44吉林大學金剛石納米坑陣列及其制備方法屬于金剛石納米結構的技術領域
具有操作簡單,成本低,可大面積生產,刻蝕氣體安全無污染等優點;將納米金的廣泛應用與金剛石的優異特性相結合,為金納米顆粒提供穩定的基底,能改善金納米顆粒在應用中所存在的易聚合及加入穩定劑造成表面污染的問題
45株式會社神戶制鋼所提供一種排列有大型的多邊形金剛石晶粒的陣列化金剛石膜
通過容易地使避開晶界的元件配置形成,由此,能夠實質上與在單晶基板上同等地高效地制造高性能的元件,并通過沿著晶界分割從而能夠容易地制造元件。該陣列化金剛石膜是在 不同種材料的結晶基板上,接著其結晶方位的信息開始成長的高取向金剛石膜,其中,在表面中,多邊形金剛石晶粒以重心間距離為20 μm 以上的二維重復圖案排列
46信越化學工業株式會社單結晶金剛石生長用基體材料以及單結晶金剛石基板的制造方法
能夠讓大面積高結晶性單結晶金剛石生長的,以及可以低成本制造高品質單結晶金剛石基板的單結晶金剛石生長用基體材料以及單結晶金剛石基板的制造方法
47一種單晶金剛石的層流等離子體的制備方法
通過調控等離子體的流體特性,構建出穩定的層流等離子體邊界層,使單晶金剛石能夠在大尺寸襯底上進行穩定生長。從而避免當前直流等離子體沉積單晶金剛石的多晶化和小尺寸襯底的問題。提供了一條適合采用大尺寸籽晶、穩定制備單晶金剛石的途徑,使單晶金剛石穩定生長區尺寸在等離子體運動軸線方向達到7厘米,并有效抑制了單晶生長表面的多晶化
48六號元素有限公司一種用于在合成環境中在基底上合成金剛石材料的化學氣相沉積(CVD)方法
涉及用于合成合成CVD金剛石材料的方法和高品質的合成CVD 金剛石材料
49能夠用于高精度拋光加工的納米單晶金剛石
該納米單晶金剛石是將粒度大于納米級的單晶金剛石顆粒通過球磨粉碎制成。能夠以便捷可行的途徑獲得納米級單晶金剛石,并且生產成本相對較低
50住友電氣工業株式會社適合用于半導體器件襯底或光學元件材料的高質量單晶金剛石
其具有更少畸變并且具有大的面積。是一種通過化學氣相沉積制備的單晶金剛石以及該金剛石的制備方法,其中,當將由兩條相互垂直的線性偏振光組成的線性偏振光引入到單晶金剛石的一個主面上時,在從相反的主面出來的兩條相互垂直的線性偏振光之間的最大延遲值橫跨整個單晶金剛石最大不超過 50nm /100μm的厚度
51華盛頓卡內基研究所超硬金剛石及其制造方法
一種通過微波等離子體化學氣相沉積生長、在超過4.0GPa的壓力下加熱到超過1500℃的溫度進行退火的單晶金剛石,其硬度大于120GPa
52六號元素有限公司單晶CVD(化學氣相沉積)金剛石體,耐磨應用中的CVD金剛石
其特別適合用作用于耐磨應用的耐磨材料,如拉絲模具、繪畫工具等。金剛石具有低的磨損速率,表現出指示低應變的低的雙折光指數,并具有可以被加工以表現出高表面拋光的能力