《穩(wěn)壓(齊納)二極管制造工藝技術(shù)精選》
應用領(lǐng)域：用于穩(wěn)定電壓，防止電壓波動對電路的影響。穩(wěn)壓二極管在反向電壓達到一定值時開始導電，限制電壓的進一步升高。
穩(wěn)壓電源：穩(wěn)壓二極管可以將輸入電壓維持在設(shè)定的水平，確保電路元件和負載在正確的電壓范圍內(nèi)工作。這種特性使得穩(wěn)壓二極管在各種電源電路中廣泛應用。
電子濾波電路：在電子濾波器中，穩(wěn)壓二極管用于穩(wěn)定直流輸出電壓，提高電路的穩(wěn)定性和可靠性。
過壓保護：當輸入電壓超過設(shè)定值時，穩(wěn)壓二極管導通，限制電流，防止過高的電壓對電路和負載造成損壞。這種保護功能在各種電子設(shè)備中非常重要。
浪涌保護電路：穩(wěn)壓二極管可以限制浪涌電壓，保護電路和負載不受瞬間高壓的影響。例如，在電視機中，當電源電壓過高時，穩(wěn)壓二極管導通，使電視機進入待機保護狀態(tài)。
溫度補償電路：利用穩(wěn)壓二極管的溫度系數(shù)，可以構(gòu)建溫度補償電路，確保電路在溫度變化時仍能保持穩(wěn)定的輸出電壓。
電弧抑制電路：在電磁吸鐵控制電路中，穩(wěn)壓二極管用于消除電感線圈在開關(guān)斷開時產(chǎn)生的電弧，保護開關(guān)和電路。
本篇是為了配合國家產(chǎn)業(yè)政策向廣大企業(yè)、科研院校提供穩(wěn)壓二極管制造工藝匯編技術(shù)資料。資料中每個項目包含了最詳細的技術(shù)制造資料,現(xiàn)有技術(shù)問題及解決方案、產(chǎn)品生產(chǎn)工藝、配方、產(chǎn)品性能測試，對比分析。資料信息量大,實用性強,是從事新產(chǎn)品開發(fā)、參與市場競爭的必備工具。
本篇系列匯編資料分為為精裝合訂本和光盤版，內(nèi)容相同，用戶可根據(jù)自己需求購買。
昭和電工株式會社（Showa Denko）是世界著名的綜合性集團企業(yè)，生產(chǎn)的產(chǎn)品涉及到石油，化學，無機，鋁金屬，電子信息等多種領(lǐng)域。
本專集收錄了日本著名公司昭和電工株式會社普通砂輪、超硬砂輪優(yōu)秀技術(shù)、生產(chǎn)工藝、配方。
【資料內(nèi)容】生產(chǎn)工藝、配方
【資料語種】日本原文
【資料價格】1980元
【資料形式】PDF文檔 電子發(fā)送
目錄及摘要
| 1 | 砥粒を含む研削砥石の研削性の評価方法 |
| 2 | アルミナ焼結(jié)體の前駆體、アルミナ焼結(jié)體の製造方法、砥粒の製造方法及びアルミナ焼結(jié)體 |
| 3 | 電融アルミナ粒、電融アルミナ粒の製造方法、砥石及び研磨布紙 |
| 4 | アルミナ焼結(jié)體、砥粒、及び砥石 |
| 5 | 複合焼結(jié)體、砥粒、砥石、複合焼結(jié)體の製造方法 |
| 6 | アルミナ焼結(jié)體、砥粒、砥石、研磨布、及びアルミナ焼結(jié)體の製造方法 |
| 7 | 単結(jié)晶ＳｉＣ基板の表面加工方法、その製造方法及び単結(jié)晶ＳｉＣ基板の表面加工用研削プレート |
| 8 | アルミナ質(zhì)焼結(jié)體、砥粒、及び砥石 |
| 9 | アルミナ質(zhì)焼結(jié)體の製造方法、アルミナ質(zhì)焼結(jié)體、砥粒、及び砥石 |
| 10 | 磁気記録媒體用ガラス基板の製造方法 |
| 11 | 研磨テープ、研磨テープの製造方法およびバーニッシュ加工方法 |
| 12 | 研磨テープ、研磨テープの製造方法および磁気ディスクのバーニッシュ加工方法 |
| 13 | 円盤狀基板の研磨方法 |
| 14 | 円盤狀基板の製造方法 |
| 15 | 円盤狀基板の內(nèi)周研磨方法 |
| 16 | 立方晶窒化ホウ素砥粒および立方晶窒化ホウ素砥粒の製造方法 |
| 17 | 研磨用工具 |
| 18 | 立方晶窒化ホウ素の製造方法 |
| 19 | 立方晶窒化ホウ素砥粒及びその製造方法並びにそれを用いた砥石及び研磨布紙 |
| 20 | 金屬被覆立方晶窒化ホウ素砥粒とその製造方法並びにレジンボンド砥石 |
| 21 | 複合材料及びそれを用いた加工方法 |
| 22 | 研磨用複合材料及び砥石、研削材料、研磨材料並びに電子部品の加工方法及びシリコンの加工方法 |
| 23 | 金屬被覆研削材、金屬被覆研削材を用いた砥石および金屬被覆研削材の製造方法 |
| 24 | 砥石用樹脂組成物、該砥石用樹脂組成物を用いた砥石の製造方法、および該砥石用樹脂組成物を用いた砥石 |
| 25 | 立方晶窒化ホウ素砥粒の製造方法 |
| 26 | インゴット切斷裝置とその方法 |
| 27 | 単結(jié)晶ＳｉＣの切斷?鏡面加工方法及び裝置 |
| 28 | 研磨材組成物 |
| 29 | 立方晶窒化ほう素砥粒およびその製造方法 |
| 30 | アルミナ質(zhì)焼結(jié)砥粒およびその製造方法 |
| 31 | アルミナ－ジルコニア質(zhì)焼結(jié)砥粒およびその製造方法 |
| 32 | 被覆電融アルミナ粒の製造方法 |
| 33 | サイアロン相含有アルミナ質(zhì)焼結(jié)砥粒の製造方法 |
| 34 | 被覆電融アルミナ粒およびその製造方法 |
| 35 | アルミナ質(zhì)焼結(jié)體及び焼結(jié)砥粒の製造方法 |
| 36 | アルミナ質(zhì)焼結(jié)砥粒、および研摩材製品 |
| 37 | アルミナ質(zhì)研磨微粉の製造方法 |
| 38 | アルミナ質(zhì)焼結(jié)砥粒の製造方法 |
| 39 | アルミナ質(zhì)セラミックス體、研摩材料およびそれらの製造方法 |
| 40 | 複合ダイヤモンド粒を用いた切削、研削、研摩具 |
| 41 | 炭化珪素シートの製造法 |
| 42 | 立方晶窒化ほう素を用いた研摩布紙 |
| 43 | 研摩材砥粒およびその製造方法 |
| 44 | 板狀立方晶窒化ほう素を配向した電著砥石 |
| 45 | 板狀立方晶窒化ほう素の配向成形體 |
| 46 | ビトリファイド砥石の製造方法 |
| 47 | 研摩成形體およびその製造方法 |
| 48 | 半導體スライスベース用カーボン板及びその製造法 |
| 49 | 研摩材砥粒の製造方法 |
| 50 | アルミニウム磁気ディスク研磨用組成物 |
| 51 | 立方晶窒化ほう素研削砥粒、その製法および砥石 |
| 52 | 磁気ディスクの製造方法及びそのための研磨布 |
| 53 | 研磨材粒子およびその製造方法 |
| 54 | 超砥粒ビトリファイドボンド砥石及び製造方法 |
| 55 | 研磨材粒子およびその製造法 |
| 56 | 半導體ウェハ鏡面研磨用パッド |
| 57 | 立方晶窒化ほう素の表面に金屬チタンを被覆する方法 |
| 58 | 多孔質(zhì)型砥石 |
| 59 | 電解砥石 |
| 60 | 研摩成形體およびその製法 |
| 61 | ダイヤモンド研摩シ－ト |
| 62 | カツタ－ブレ－ドおよびその製造方法 |
| 63 | メタルボンド研摩シ－トおよびその製造方法 |
| 64 | メタルボンド研摩シ－トおよびその製造法 |
| 65 | 放電研削加工用ワイヤ電極の砥粒電著裝置 |
| 66 | 放電加工用ワイヤ－ |
| 67 | レジノイドセグメント砥石の製造法 |
| 68 | 薄肉砥石の製造法 |
| 69 | 研削用成形體 |
| 70 | 立方晶窒化ホウ素焼結(jié)砥粒の製造法 |
| 71 | 研削砥粒及び研削砥石 |
| 72 | 研摩成形體およびその製造法 |
| 73 | 研削研磨成形體 |
| 74 | 磁性研磨材 |
| 75 | セラミックス粒子の突起を有する金屬コ－ト方法 |
| 76 | 研削砥石 |
| 77 | 立方晶ＢＮ砥粒の改質(zhì)法 |
| 78 | ダイヤモンド焼結(jié)複合體の製造法 |
| 79 | レジノイド砥石 |
| 80 | 立體的電著砥石 |
| 81 | 研削研摩用の可撓性電著シ－ト |
| 82 | 金屬被覆研摩粒子及びそれを用いた砥石 |
| 83 | 立方晶ＢＮ砥粒の改質(zhì)法及び砥石の製造法 |
| 84 | レンズの精密研削用シ－トの製造法 |
| 85 | ガラスの精密研削工具 |
| 86 | シリコン半導體の鏡面仕上げ用研摩素子及び鏡面仕上げ法 |