柔性電路板(Flexible Printed Circuit 簡稱FPC)是以聚酰亞胺或聚酯薄膜為基材制成的一種具有高度可靠性,絕佳的可撓性印刷電路板。具有配線密度高、重量輕、厚度薄、彎折性好的特點。廣泛應用于各種高科技領域,包括移動設備、車載系統、醫療設備、工業自動化與電力控制、航空航天與軍事等多個領域。
技術特點:
高效組裝:由于柔性電路板已將所有線路配置完成,無需額外排線連接,顯著節省了組裝時間。
緊湊體積:柔性電路板能有效降低產品體積,提升便攜性,滿足空間受限的應用需求。
輕便設計:其輕盈的特性有助于減輕最終產品的整體重量,適用于對重量敏感的應用場景。
靈活厚度:柔性電路板比傳統PCB更薄,賦予了它卓越的柔軟度,使得在有限空間內進行三維組裝成為可能。
自由度高:柔性電路板能夠自由彎曲、卷繞和折疊,適應各種空間布局,實現元器件裝配與導線連接的完美結合。
優越性能:柔性電路板具備良好的散熱性、可焊性以及易于裝連的特點,同時其綜合成本也相對較低。
本篇是為了配合國家產業政策向廣大企業、科研院校提供FPC電路板制造工藝匯編技術資料。資料中每個項目包含了最詳細的技術制造資料,現有技術問題及解決方案、產品生產工藝、產品性能測試,對比分析。資料信息量大,實用性強,是從事新產品開發、參與市場競爭的必備工具。
本篇系列匯編資料分為為精裝合訂本和光盤版,內容相同,用戶可根據自己需求購買。
日本企業占據了全球光刻膠市場約70%到90%的份額,尤其在高端的ArF和EUV光刻膠領域,市場份額甚至超過90%。這些高端光刻膠是半導體制造中不可或缺的關鍵材料,直接影響芯片的性能和制造精度。
本篇資料收錄了日本著名公司光刻膠制造專利技術,涉及:工藝、配方、制備方法等,是我國從事光刻膠行業研究生產單位的重要參考資料。
【資料內容】生產工藝、配方
【出品單位】國際新技術資料網
【資料語種】日文
【電 子 版】1680元(PDF文檔 郵箱發送)
【聯系電話】13141225688 梅蘭(女士)
目錄
1 | 半導體フォトレジスト用組成物およびこれを利用したパターン形成方法 | 三星エスディアイ株式會社 |
2 | フォトレジスト用樹脂、フォトレジスト組成物および硬化物 | 日油株式會社 |
3 | 金屬含有フォトレジスト現像液組成物、およびこれを利用した現像段階を含むパターン形成方法 | 三星エスディアイ株式會社 |
4 | 金屬含有フォトレジストのエッジビーズ除去用組成物または金屬含有フォトレジストの現像液組成物、およびこれを利用したパターン形成方法 | 三星エスディアイ株式會社 |
5 | フォトレジスト上層膜用組成物およびこれを利用したパターン形成方法 | 三星エスディアイ株式會社 |
6 | 半導體フォトレジスト用組成物およびこれを用いたパターン形成方法 | 三星エスディアイ株式會社 |
7 | 金屬含有フォトレジスト用現像液組成物、およびこれを用いた現像段階を含むパターン形成方法 | 三星エスディアイ株式會社 |
8 | 有機塩、それを含むフォトレジスト組成物、及びフォトレジスト組成物を用いるパターン形成方法 | 三星電子株式會社 |
9 | 金屬含有フォトレジスト用現像液組成物、およびこれを用いた現像工程を含むパターン形成方法 | 三星エスディアイ株式會社 |
10 | 重合性化合物、酸発生剤、樹脂、及びフォトレジスト | サンアプロ株式會社 |
11 | 有機金屬化合物、フォトレジスト用感光材、及びフォトレジスト | サンアプロ株式會社 |
12 | スルホニウム塩、前記スルホニウム塩を含む酸発生剤、及び前記スルホニウム塩を含むフォトレジスト | サンアプロ株式會社 |
13 | 金屬含有膜形成用化合物、金屬含有膜形成用組成物、パターン形成方法、及び半導體フォトレジスト材料 | 信越化學工業株式會社 |
14 | 電著フォトレジスト用塗料組成物 | 株式會社シミズ |
15 | カルボン酸塩、それを含むフォトレジスト組成物、及びそのフォトレジスト組成物を用いるパターン形成方法 | 三星電子株式會社 |
16 | フォトレジスト剝離液 | ナガセケムテックス株式會社 |
17 | 金屬含有フォトレジスト現像液組成物、およびこれを用いた現像工程を含むパターン形成方法 | 三星エスディアイ株式會社 |
18 | フォトレジスト用剝離液及びこれを用いた基板の処理方法 | 東京応化工業株式會社 |
19 | フォトレジスト剝離組成物 | 関東化學株式會社 |
20 | 電著フォトレジスト塗膜の剝離方法 | ハニー化成株式會社 |
21 | 改良されたフォトレジスト製剤 | 船井電機株式會社 |
22 | 光酸発生剤、それを含むフォトレジスト組成物、及びそれを利用したパターン形成方法 | 三星電子株式會社 |
23 | パターン化された有機金屬フォトレジスト及びパターニングの方法 | インプリア?コーポレイション |
24 | 化合物、前記化合物を含む酸発生剤、フォトレジスト、及び前記フォトレジストを使用した電子デバイスの製造方法 | サンアプロ株式會社 |
25 | ノボラック型フェノール樹脂、ノボラック型フェノール樹脂の製造方法、及びフォトレジスト組成物 | 明和化成株式會社 |
26 | 複合フォトレジスト材料とその製造方法、および流體吐出ヘッド | 船井電機株式會社 |
27 | ネガ型レジスト樹脂組成物およびネガ型フォトレジスト樹脂組成物 | サンアプロ株式會社 |
28 | ノズルプレートの接著性を強化するためのフォトレジストイメージングおよび現像 | 船井電機株式會社 |
29 | フォトレジスト組成物及びパターン形成方法 | ローム アンド ハース エレクトロニック マテリアルズ エルエルシー |
30 | 半導體フォトレジスト用組成物およびそれを用いたパターン形成方法 | 三星エスディアイ株式會社 |
31 | 半導體フォトレジスト用組成物およびその製造方法、ならびにこれを用いたパターン形成方法 | 三星エスディアイ株式會社 |
32 | フォトレジスト樹脂の製造方法 | 株式會社ダイセル |
33 | フォトレジスト組成物、液體吐出ヘッド及び液體吐出ヘッドの製造方法 | キヤノン株式會社 |
34 | フォトレジストパターン形成方法 | 東京応化工業株式會社 |
35 | フォトレジスト用のノボラック型フェノール樹脂およびその製造方法、ならびにフォトレジスト用の感光性樹脂組成物 | 住友ベークライト株式會社 |
36 | フォトレジストの特性解析方法および特性解析裝置 | フェムトディプロイメンツ株式會社 |
37 | フォトレジスト組成物およびその硬化物 | 太陽インキ製造株式會社 |
38 | ネガ型カチオン性電著フォトレジスト用樹脂組成物及びそれを電著塗裝してなる塗膜 | ハニー化成株式會社 |
39 | フォトレジスト用フェノール樹脂組成物及びフォトレジスト組成物 | 明和化成株式會社 |
40 | 厚膜用フォトレジスト組成物及び厚膜フォトレジストパターン形成方法 | 東京応化工業株式會社 |
41 | 単量體、フォトレジスト用樹脂、フォトレジスト用樹脂組成物、及びパターン形成方法 | 株式會社ダイセル |
42 | フォトレジスト除去用組成物 | 三菱ガス化學トレーディング株式會社 |
43 | フォトレジスト用組成物 | 株式會社ダイセル |
44 | フォトレジスト用樹脂、フォトレジスト用樹脂の製造方法及びフォトレジスト組成物 | 明和化成株式會社 |
45 | 感光性樹脂組成物、これを用いたフォトレジストフィルム、及びレジストパターンの形成方法 | ニッコー?マテリアルズ株式會社 |
46 | フォトレジスト用樹脂、フォトレジスト用樹脂の製造方法、フォトレジスト用樹脂組成物、及びパターン形成方法 | 株式會社ダイセル |
47 | 重合性化合物、重合性組成物、重合體及びフォトレジスト用組成物 | JNC株式會社 |
48 | フォトレジスト用保護フィルム | 三菱ケミカル株式會社 |
49 | フォトレジスト及びフォトリソグラフィ | 日本化成株式會社 |
50 | フォトレジスト塗布裝置 | トヨタ自動車株式會社 |
51 | 化學増幅型フォトレジスト組成物 | サンアプロ株式會社 |
52 | 化學増幅型ポジ型フォトレジスト組成物 | サンアプロ株式會社 |
53 | ネガ型フォトレジスト用樹脂組成物及び硬化膜 | サンアプロ株式會社 |
54 | 光発生裝置、光発生裝置を備える露光裝置、露光システム、光発生方法、及び露光フォトレジスト製造方法 | 公立大學法人兵庫県立大學 |
55 | 誘導自己組織化用の化學テンプレートを形成するための硬化フォトレジストのUV支援剝離 | 東京エレクトロン株式會社 |
56 | ネガティブトーン現像剤相溶性フォトレジスト組成物及び使用方法 | トーキョー エレクトロン ユーエス ホールディングス,インコーポレーテッド |
57 | 機能構造體製造方法及びフォトレジスト処理裝置 | ウシオ電機株式會社 |
58 | ポジ型フォトレジスト | 住友精化株式會社 |
59 | コーティング用組成物およびフォトレジスト積層體の製造方法 | 旭硝子株式會社 |
60 | フォトレジスト組成物及びこれを利用する微細パターン形成方法 | 三星電子株式會社 |
61 | フォトレジスト用樹脂、フォトレジスト樹脂の製造方法、フォトレジスト用樹脂組成物、及びパターン形成方法 | 株式會社ダイセル |
62 | フォトレジストフィルム、レジストパターンの形成方法、および導體パターンの形成方法 | ニッコー?マテリアルズ株式會社 |
63 | ドライフィルムフォトレジスト支持體二軸配向ポリエステルフィルム | 東レ株式會社 |
64 | アルコール誘導體、アクリル酸エステル誘導體、混合物、高分子化合物およびフォトレジスト組成物 | 株式會社クラレ |
65 | コーティング用組成物の製造方法およびフォトレジスト積層體の製造方法 | AGC株式會社 |
66 | フォトレジスト成分濃度測定裝置および濃度測定方法 | パナソニックIPマネジメント株式會社 |
67 | ポジ型フォトレジスト組成物 | 東京応化工業株式會社 |
68 | フォトレジスト組成物並びにそれを用いたドライエッチング用マスク及び積層體 | 旭化成イーマテリアルズ株式會社 |
69 | 半導體基板処理裝置、フォトレジストを剝離する方法、および半導體裝置の製造方法 | セイコーインスツル株式會社 |
70 | フォトレジスト用活性エネルギー線硬化性組成物 | ダイセル?オルネクス株式會社 |