柔性電路板(Flexible Printed Circuit 簡稱FPC)是以聚酰亞胺或聚酯薄膜為基材制成的一種具有高度可靠性,絕佳的可撓性印刷電路板。具有配線密度高、重量輕、厚度薄、彎折性好的特點。廣泛應用于各種高科技領域,包括移動設備、車載系統、醫療設備、工業自動化與電力控制、航空航天與軍事等多個領域。
技術特點:
高效組裝:由于柔性電路板已將所有線路配置完成,無需額外排線連接,顯著節省了組裝時間。
緊湊體積:柔性電路板能有效降低產品體積,提升便攜性,滿足空間受限的應用需求。
輕便設計:其輕盈的特性有助于減輕最終產品的整體重量,適用于對重量敏感的應用場景。
靈活厚度:柔性電路板比傳統PCB更薄,賦予了它卓越的柔軟度,使得在有限空間內進行三維組裝成為可能。
自由度高:柔性電路板能夠自由彎曲、卷繞和折疊,適應各種空間布局,實現元器件裝配與導線連接的完美結合。
優越性能:柔性電路板具備良好的散熱性、可焊性以及易于裝連的特點,同時其綜合成本也相對較低。
本篇是為了配合國家產業政策向廣大企業、科研院校提供FPC電路板制造工藝匯編技術資料。資料中每個項目包含了最詳細的技術制造資料,現有技術問題及解決方案、產品生產工藝、產品性能測試,對比分析。資料信息量大,實用性強,是從事新產品開發、參與市場競爭的必備工具。
本篇系列匯編資料分為為精裝合訂本和光盤版,內容相同,用戶可根據自己需求購買。
國內和國際研究機構開發了多種高純度納米金剛石拋光液配方,解決了納米金剛石團聚和懸浮穩定性問題。這些拋光液具有良好的分散性、懸浮穩定性,且不易沉淀,適用于多種硬質材料(如藍寶石、碳化硅、LED襯底等)的精密研磨和拋光。例如,清華大學研制的超精油性金剛石研磨液,具有高分散性和穩定性,適用于碳化硅晶片、藍寶石襯底片等材料的拋光。
本資料收錄了國內最新金剛石研磨膏、拋光液制造新技術工藝配方,涉及國內外優秀專利技術,包括:技術領域、技術背景、解決技術問題、具體工藝步驟、配方、實施例等。是國內研究生產研磨劑廠家重要技術參考價資料。
【資料內容】生產工藝、配方
【項目數量】75項
【出品單位】國際新技術資料網
【資料電子版】1680元(PDF文檔 郵件傳送)
目錄
1 | 一種穩定懸浮的水性鉆石研磨液及其制備方法 | 該水性鉆石研磨液的研磨速率高、TTV小,磨料分散穩定性高,相比傳統的水性鉆石研磨液,還具有不易沉降的優點,相比油性研磨液,更加安全環保,易于清洗,可以避免因長時間作業升溫引發的質量和安全隱患。 |
2 | 一種銅基復合焊膏、其制備方法與應用 | 銅基復合焊膏,通過加入微米級摻雜改性金剛石粉(即對微米金剛石進行摻雜改性),能夠使硼、硫、氮、磷、鎂等摻雜原子滲入微米金剛石晶格中,有助于提升導電性能,而導電性能的提升有助于降低焊層的發熱功率,進而改善半導體器件的導熱性能以及高溫穩定性。 |
3 | 一種應用于金剛石襯底的粗拋液及其制備方法 | 顯著提高了磨料的分散性和拋光液的均勻性,優化了磨料的粒徑分布,以獲得高品質的拋光液。 |
4 | 用于單晶金剛石化學機械拋光的稀土拋光液及制備方法 | 制備工藝方法簡單,發明的產品具有優異的拋光性能。 |
5 | 用于不銹鋼小游隙關節軸承的研磨膏、制備及其使用方法 | 解決了軸承安裝收口后軸承外圈受收口力作用而產生變形,擠壓內圈從而導致軸承安裝收口后出現卡滯抱死的問題。 |
6 | 用于高硬度材料的水溶性金剛石研磨膏及其制備方法、應用 | 用于高硬度材料的水溶性金剛石研磨膏按照質量份數包括:硬脂酸:10?80份;乙烯醚:1?20份;凡士林:1?10份;蠟:0.1?10份;人造金剛石微粉:2?200份。 |
7 | 油性金剛石研磨膏及其制備方法、應用 | 高壓釜的壓力為1?200MPa,得到加熱好的研磨膏;將加熱好的研磨膏冷卻至室溫,得到所述油性金剛石研磨膏。 |
8 | 一種稀土元素摻雜的單晶金剛石拋光液及其制備方法 | 拋光液特別適用于單晶金剛石的超精密拋光,可廣泛應用于光學、電子和機械加工等領域。與現有技術相比,本發明的拋光液具有更高的拋光效率和更好的表面質量,同時減少了拋光過程中的表面損傷,具有顯著的經濟效益和社會效益。 |
9 | 一種金剛石研磨膏及其制備方法 | 金剛石研磨膏具有分散性好,流動性好,研磨速率高,研磨盤盤溫可控,工件表面光潔度高、不粘工件,易清潔的突出特點,可提高研磨加工效率,降低加工成本。 |
10 | 用于單晶金剛石化學機械拋光加工的拋光液及其制備方法 | 提供的拋光液具有較大的氧化能力和去除率,實現了金剛石的高質高效加工。 |
11 | 一種抗腐蝕金剛石研磨液及其制備方法 | 提供的研磨液具有抗腐蝕以及高分散性的性能,可以廣泛應用于精密研磨拋光領域,具有較好的商業應用價值。 |
12 | 一種多晶金剛石用拋光液及拋光方法 | 能夠滿足制造超硬切削工具、半導體、紅外光學窗、高性能散熱器等領域的基本要求,具有廣闊的應用前景。 |
13 | 一種適用于塑膠型眼鏡材料的研磨膏 | 配方得到的研磨膏,不僅分散性更強,不易產生沉淀,而且去除率得到增強,拋光效果也更好。 |
14 | 一種用于碳化硅襯底研磨用團聚鉆石液的制備方法 | 在降低工藝成本的同時,能保持研磨效率不變,且研磨后表面質量得到進一步地提高。 |
15 | 用于加工高純大尺寸氧化鋁陶瓷基板表面的粗磨液及其制備方法 | 通過等離子體改性使粉體除發揮純機械去除作用外,還能發揮摩擦化學作用;通過表面活性劑和懸浮穩定劑使粉體在研磨液體系中分散均勻,提高加工效率、表面質量和平整度;通過潤滑劑和緩蝕劑降低摩擦和腐蝕;顯著提高了去除速率和產品良率,降低了表面粗糙度和成本。 |
16 | 一種金剛石研磨液及其制備方法 | 該金剛石研磨液具有研磨效率高、磨料分散均勻,懸浮穩定性好,長時間放置不會產生沉降分層現象,解決了市面上產品存在的金屬腐蝕及團聚、分層等問題,對環境無污染。 |
17 | 多晶碳化硅襯底拋光劑、拋光方法及多晶碳化硅襯底 | 多晶碳化硅襯底表面粗糙度<0.5nm,完成多晶碳化硅襯底拋光。拋光而得的多晶碳化硅襯底表面粗糙度能夠滿足鍵合工藝的要求。 |
18 | 一種摻雜金屬納米顆粒的單晶金剛石拋光液及其制備方法 | 將正硅酸乙酯水解后膠束自組裝,再經煅燒得到。本發明公開了上述摻雜金屬納米顆粒的單晶金剛石拋光液制備方法。 |
19 | 一種基于碳化硅陶瓷片拋光的雙cmp拋光液的拋光方法 | 然后在碳化硅陶瓷板打磨過程中添加堿性cmp拋光液進行機械打磨,在堿性cmp拋光液中的金剛石微粉和磨料的作用下,可以大大提高碳化硅陶瓷板的打磨效率。 |
20 | 一種氮化鎵晶圓的綠色拋光液 | 采用的拋光液打破了芬頓反應pH不大于3的限制,使拋光液在偏中性環境中仍有較好的氧化性,且拋光液穩定性較好,綠色無污染,拋光效果好。 |
21 | 一種碳化硅加工用多晶金剛石磨拋劑及其制備方法 | 混合均勻后得到所述磨拋劑;改性多晶金剛石微粉能夠在介質中長期、穩定分散,制備得到的磨拋劑具有良好的冷卻性和清洗性、優越的潤滑性、高懸浮性、高團聚抑制能力。 |
22 | 一種高效低損傷金剛石研磨液及其制備方法 | 在形成軟性緩沖層保障效率抑制劃傷的同時,也可實現研磨液的及時更新,穩定研磨加工性能。 |
23 | 一種堿性-耐熱-多尺寸磨粒磁流變拋光液及其制備方法 | 磁流變拋光液提升了材料去除率,提高石英玻璃元件的拋光效率;并進一步降低拋光粗糙度,有利于加工出高質量表面。 |
24 | 一種碳化硅晶片拋光液及其制備方法和應用 | 該拋光液的拋光去除速率穩定,表面加工品質好,還能適用于不同材質拋光墊。 |
25 | 一種具有光催化輔助功效的拋光液及其制備方法 | 具有較高的懸浮穩定性,拋光效率高,散熱快,可適用于硬質合金、陶瓷、光學玻璃、寶石、集成電路等多種材料的拋光加工。 |
26 | 一種微納氣泡輔助光催化拋光單晶金剛石雙組分拋光劑及其制備方法 | 拋光劑成分簡單、組分無毒、對環境友好。采用雙組分的形式,有效的避免了拋光劑可能失效的問題,保留了拋光劑強氧化性能,使其在單晶金剛石拋光過程中更好的發揮作用。 |
27 | 一種拋光硅片的金剛石拋光液 | 混合后攪拌均勻,后超聲設備中震蕩10?15min,長時間存放基本不產生沉淀,拋光質量穩定,沒有對人體有害成分,有利環保。 |
28 | 一種油性多晶金剛石研磨拋光液及其生產制備工藝 | 將原料根據比例依次倒入至配料量筒內部,方便迅速完成配料,推動相對應原料位置的滑板,將原料送入,方便根據次序選取所需放入的原料,操作更加簡單便利。 |
29 | 一種用于光纖接頭端面的拋光液組合物 | 光纖接頭拋光液組合物對光纖接頭端面進行拋光,可有效降低光纖接頭端面的表面粗糙度,并具有低的纖芯下陷,提高了光纖接頭加工的成品良率。 |
30 | 一種用于非金屬材料精密拋光的研磨膏及其制備方法 | 研磨膏能針對氧化鋁、氧化鋯、碳化硅陶瓷和石英等材料進行精密拋光研磨,僅需拋光30分鐘即可達到較好的效果,表面粗糙度可從原來的Ra0.4達到Ra0.1,提高拋光精度和效率,提高產品成品率,該研磨膏成本低廉,制備便捷,易于推廣。 |
31 | 添加納米金屬的單晶金剛石高精度拋光劑及其制備方法 | 滿足單晶金剛石不同原子面拋光工藝差異化要求。本發明拋光劑用于單晶金剛石的拋光。 |
32 | 寶石閥座密封槽用研磨拋光膏及其制備方法 | 解決研磨拋光膏在寶石閥座密封槽加工過程中容易在密封槽表面形成絲劃,表面精度差,表面光潔度低,與工件的粘黏性差,從而導致寶石閥座密封性差,生產效率低,生產成本高的問題。 |
33 | 一種綠色可見光催化輔助金剛石化學機械拋光液 | 拋光后,表面粗糙度為0.111nm,材料去除率為416nm/h。本發明實現了綠色、高效、高質量化學機械拋光金剛石。 |
34 | 一種可見光輔助金剛石化學機械拋光液及拋光方法 | 實現了金剛石的高效率超光滑化學機械拋光。相較于傳統拋光方法,晶體表面粗糙度降低,拋光效率提升。相較于紫外光輔助化學機械方法,使用設備結構簡單,實用性強。 |
35 | 一種金剛石研磨膏及其制備方法 | 金剛石研磨膏使用方便,硬度高,易清洗,可以對物體表面起到很好地研磨作用,方便研磨物的后期處理。 |
36 | 一種煤巖專用拋光劑及其制備方法 | 配方設計科學合理,通過加磁改性金剛石微粉替代傳統的金剛石微粉,金剛石微粉具備磁性,使所得拋光劑中金剛石微粉能長期穩定懸浮,保障拋光質量和拋光效率,滿足煤巖分析的需求。 |
37 | 大尺寸硅片邊緣的拋光液、拋光液制備方法及拋光方法 | 采用離子交換樹脂通過離子交換法對磨粒進行表面改性,結合拋光液配方的調控,快速獲得超光滑表面。 |
38 | 一種硫化鋅用拋光液及其制備方法 | 檸檬酸在拋光過程中既能起到溶解作用又能在表面形成過渡層,防止過度腐蝕。上述各組分在特定的配比條件下協同作用,可以使得到的硫化鋅用拋光液拋光處理后的硫化鋅晶體的表面粗糙度較低。 |
39 | 一種二氧化碲用拋光液及其制備方法 | 實驗結果表明,本發明制備的二氧化碲用拋光液拋光處理后的二氧化碲晶體的表面粗糙度明顯更低,不超過0.6nm,無劃傷、凹坑和麻點等缺陷。 |
40 | 一種SiC襯底加工用納米金剛石拋光液及其制備方法 | 所述拋光液通過控制金剛石微粉的形貌構成,在耐磨磨粒提高拋光效率的同時,借助圓形磨粒修復表面損傷層和粗糙度,從而實現對拋光劃傷的控制。 |
41 | 一種金剛石研磨液及其制備工藝 | 該金剛石研磨液研磨效率高,磨料分散均勻,懸浮穩定性好,長時間放置不會發生沉降分層現象。 |
42 | 一種金剛石拋光液的制備方法 | 金剛石微粉經過改性處理,其表面增加了含氧基團,有利于金剛石微粉的分散。 |
43 | 一種金剛石懸浮研磨拋光液及其制備方法 | 拋光液可以直接使用,省去了再次稀釋的步驟,提高了加工效率,增加拋光產品品質的穩定性。 |
44 | 一種鋯基復合拋光液及其制備方法 | 拋光液能夠有效去除硒化鋅、硫化鋅、硫系玻璃等材料表面的麻點、表面損傷等缺陷,避免拋光過程中產生劃痕,而且本發明的拋光液同時兼顧拋光效果和拋光效率,效果良好。 |
45 | 一種環保不銹鋼拋光液 | 與現有技術相對比,本發明的拋光顆粒硬度適中、磁控剪切力大,載流體為乙醇/水體系環保,拋光顆粒可回收,處理后不銹鋼表面形成鈍化膜大大延緩腐蝕等優點。 |
46 | 一種石英玻璃研磨液及其制備方法 | 硬度略低的氧化鋁顆粒可對金剛石加工造成的裂紋進行修復,可同時滿足石英玻璃研磨去除率高、粗糙度小的理想研磨效果。 |
47 | 一種碳化硅單晶拋光液及其使用方法 | 該拋光液利用不同粒度的拋光磨料,實現了對碳化硅單晶表面的有效拋光,實現了碳化硅單晶表面粗糙度Ra均達到亞納米級。 |
48 | 一種拋光液及其制備方法和碳化硅晶體的加工方法 | 所述拋光液可用于對碳化硅晶體的加工中。本發明的拋光液配合拋光墊對碳化硅進行拋光,能夠有效減少精拋時間和減少整體研磨拋光時間,并顯著提高晶體表面質量。 |
49 | 金剛石研磨膏及其制備方法 | 金剛石研磨膏具有較好的流動性,且金剛石微粉在金剛石研磨膏中的分散性好,在用于高硬度材料的研磨加工時產生的劃痕少。 |
50 | 一種新型環保的微乳液型金剛石拋光液 | 短碳鏈及羥基結構提高了表面活性劑的親水性,更容易形成穩定的油水體系,長時間保持均勻透明且不分層。該拋光液制備方法簡單,所需設備簡易且操作條件溫和,可實現高效的工業化生產。 |
51 | 含納米混合拋光粉的磁流變拋光液及其制備方法 | 制備方法包括將羰基鐵粉、納米混合拋光粉、基載液混合,然后加入表面活性劑和pH調節劑即得。本發明的磁流變拋光液可實現磁流變拋光高去除效率和高表面質量的兼容,流變性能好,穩定性強,能夠實現光學元件的磁流變高效超光滑加工。 |
52 | 一種用于陶瓷軸承球的拋光液及其制備方法 | 具有高效率、易清洗的特點,拋光后陶瓷軸承球的表面質量優異。 |
53 | 碳化硅晶片粗拋用金剛石拋光液及制備方法 | 采用改性脲溶液作為有機懸浮劑,拋光液長期放置無明顯分層現象,與無機懸浮劑,如疏水改性氣相法白炭黑,有機膨潤土相比,拋光廢屑不易粘附在拋光盤上,易清洗。 |
54 | 一種藍寶石晶片研磨液及其制備方法 | 在純硅溶膠中加入鈰鋯摻雜硅溶膠和鈰鈣摻雜硅溶膠,加快對藍寶石晶片表面的軟化速度,加入碳化硼微粉、金剛石微粉和氧化鋁空心球作為增磨劑,加速去除軟化部分的速度,大大提高加工速率。 |
55 | 一種金剛石拋光液及其制備方法 | 提供的拋光液的為水性拋光液、綠色環保、懸浮性好,拋光效率高、拋光面的光潔度好、成本低廉等特點。 |
56 | 一種金剛石研磨液及其制備方法 | 研磨液能夠在保證研磨速率不降低的同時,改善表面加工質量,獲得表面粗糙度更低、深劃傷更少的加工工件。 |
57 | 一種超快速低損碳化硅襯底拋光液及其制備方法 | 所述添加劑對拋光基液具有平衡拋光時摩擦力作用,使碳化硅襯底在高速拋光的過程中,不會因為拋光速度加快而出現劃痕或粗糙度加劇的問題,實現高速拋光的同時,降低表面粗糙度,減少劃痕的目的,且整個精加工過程,加工精度高、自動化程度高。 |
58 | 一種拋光粉及其制備方法 | 在研磨過程中加入金剛石微粉以及滑石粉,制得三級粗成品;S6.對三級粗成品進行粒徑篩分處理,得到成品粉體。本發明具有提升拋光粉粉體品質的效果。 |
59 | 一種自潤滑拋光硅膠材料及其制備方法和產品 | 自潤滑拋光硅膠材料及其制備方法和產品,按重量份計,包括硅膠100份、氧化鈰粉10?40份、金剛石粉5?20份、氧化鋁粉5?20份、亮光劑0.3?1.5份、硫化劑1?2份、色素0.5份,自潤滑拋光硅膠材料在作為拋光耗材時,不需要添加研磨劑或拋光劑,污染小,磨形速度快,通用性好,耐磨性好。 |
60 | 一種金剛石研磨膏及其制備方法 | 其研磨拋光結果為高碳鋼材料的表面粗糙度均明顯的降低且材料表面刮痕少,所制備的金剛石研磨膏材料去除率高、拋光效果良好。 |
61 | 一種金剛石研磨膏及其制備方法 | 金剛石研磨膏具有良好的研磨拋光性能,膏體細膩,對藍寶石鏡片材料有良好的拋光效果。 |
62 | 一種利用超聲波制備金剛石研磨膏的方法 | 由此方法制作的金剛石研磨膏金剛石微粉分散均勻,不易沉淀,使用壽命長,并且研磨拋光效率高,研磨出的產品能達到質量要求。 |
63 | 一種微波加熱制備金剛石研磨膏的方法 | 金剛石研磨膏具有良好的分散性和均勻性,膏體細膩,能夠達到材料所需要的研磨拋光效果。 |
64 | 一種金剛石研磨膏及其制備方法與應用 | 金剛石研磨膏能夠用于金屬材料、陶瓷材料、玻璃材料和塑料等材料的精密乃至超精密加工。 |
65 | 一種水油雙溶性金剛石復合研磨膏及其制備方法 | 膏體懸浮穩定性好,微粉分散均勻,使用后易于清洗,成本低廉,且研磨工作效率高。 |
66 | 一種鋼管加工用銹斑拋光膏 | 銹斑拋光膏能顯著提高拋光效果,節省拋光時間,降低磨具的消耗,并且能及時對拋光產生的新表面進行防銹處理,防止銹斑再次形成。 |
67 | 一種易清洗的金剛石研磨膏及其制備方法 | 金剛石研磨膏具有良好的清洗性,膏體細膩,能夠達到好的研磨效果的同時也方便研磨器壁的清洗。 |
68 | 一種金剛石研磨膏 | 所述的金剛石研磨膏能提高金剛石微粉的分散性,保證特種陶瓷的研磨效果,并能適用于油性和水性介質。 |
69 | 一種用于高純氧化鋁陶瓷的研磨拋光膏 | 原料混合制成:納米金剛石顆粒2-5份,凡士林150-340份,動物脂肪油200-320份,表面改性劑30-100份。本發明拋光效率高,拋光后的產品表面無劃痕,光潔度高,粗糙度小于0.1微米。 |
70 | 一種閥門密封面研磨用金剛石-納米陶瓷復合膏 | 能夠在閥門密封面形成氧化膜,從而加速研磨過程,提高研磨效果,并且能夠對研具產生一定的保護作用。 |
71 | 一種油水兩溶性金剛石研磨膏及其制備方法 | 所述的油水兩溶性金剛石研磨膏既能保證研磨拋光速率,又能達到表面質量要求,并且容易清洗。 |
72 | 一種4H-SiC單晶片研磨工序用研磨膏及其制備方法 | 所制得的研磨膏具備良好的穩定性。 |
73 | 一種人造金鋼石研磨膏 | 研磨膏使用時配合氣動打磨機,用于加工精密模具表面的拋光處理,其表面質量和表面光潔度高,且對操作人員的經驗和技術水平要求不高,可以大大提高生產效率降低成本,適用批量加工。 |
74 | 用于藍寶石圓棒膠木輪的拋光膏及其制備方法 | 所述拋光膏拋光的工件表面表面光潔度好,操作方法簡單,技術要求低,適用于大批量生產。采用本發明方法制備的拋光膏均勻分散、穩定、不會產生沉淀。 |
75 | 一種高純度納米金剛石拋光膏及其制備方法 | 該拋光膏具有兩溶性、具有較高的拋光速率、良好的分散穩定性、粘度適中,能有效的防止被拋光陶瓷插針微內孔表面產生,經檢測,插入損耗和回波損耗均達到國標要求。 |